簡要描述：真空高溫爐用于真空與氣氛狀態(tài)下，陶瓷材料的合成與燒結(jié)；玻璃融化，金屬熔融，分體煅燒；無氧或者氣體保護(hù)狀態(tài)下，有機(jī)質(zhì)的熱解碳化；干燥，濃縮，熱處理。

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-10-22
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產(chǎn)品介紹

品牌	中奧菲達(dá)	升溫速度（達(dá)到最高溫）	40/min
內(nèi)部尺寸	300x200x200mm	加熱方式	硅碳棒
最大功率	4000kW	控溫精度	1℃
最高溫度	1400℃	價(jià)格區(qū)間	1萬-2萬
儀器種類	箱式爐	產(chǎn)地類別	國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),綜合

真空高溫爐通用功能

1、升溫速度快：20min內(nèi)就可由室溫程序升溫至1000℃ ；

2、氣氛環(huán)境：真空環(huán)境，真空度可達(dá)－0.0099Mpa；

3、水冷卻系統(tǒng)：根據(jù)物料特性，溫度可達(dá)到1400℃，長時(shí)間連續(xù)工作溫度100~1300℃；

4、單路氣氛：設(shè)置氣體進(jìn)出口及爐膛內(nèi)氣體排出口；

5、進(jìn)口紅外測溫儀，可以不接觸測試物料溫度，避免微波場干擾；

6、門體多重連鎖結(jié)構(gòu)，開門斷電，保護(hù)操作人員，微波泄漏防護(hù)符合國標(biāo)；

7、采用PLC自動控制，溫度功率均智能可控，觸摸屏操作；

8、微波功率可調(diào)，連續(xù)可調(diào)。

真空高溫爐重要技術(shù)參數(shù)
一、型號：AFD1100-50；
二、設(shè)備尺寸
a、工作區(qū)尺寸:D500(mm) * W400(mm) * H400(mm)；
三、機(jī)器結(jié)構(gòu)
a、單門落地式，控制部分位于機(jī)臺下方；
b、爐門為從左至右打開。
四、主要技術(shù)參數(shù)
a、溫度范圍：RT～1300℃；
b、溫度波動度：±1.0℃；
c、溫度均勻度：≤±5.0℃；
d、溫度：1400 ℃；
e、額定溫度：1300℃；
f、加熱元件：硅碳棒
g、熱電偶型號：B型
h、四周表面溫度：≤ 溫升50℃；
i、升溫速率：≤ 20 ℃/ Min；
j、升溫速率：10 ℃/ Min；
K、降溫速率：≤ 15 ℃/ Min（爐膛溫度≥1000℃）；
l、降溫速率：≤ 10 ℃/ Min（爐膛溫度≤1000℃）；
m、加熱元件放在爐膛兩邊采用氣體對流和熱輻射加熱；
n、爐內(nèi)真空度20Kpa，爐內(nèi)正壓：max0.1Mpa；
o、爐膛內(nèi)可通氫氣、氮?dú)?，氧氣（少量）、氬氣等氣體。
五、內(nèi)外材質(zhì)
a、爐膛材料：1560型日本進(jìn)口氧化鋁多晶體纖維（阿爾塞）；
b、外層SPCC鋼板防銹處理+粉體烤漆處理；
六、密封裝置
a、爐門與爐體采用硅橡膠密封，配有循環(huán)水冷卻裝置；
b、爐體采用雙層爐殼，外城爐殼采用硅橡膠密封；
七、溫控系統(tǒng)；
a、溫度控制為PID微電腦自動演算,PV/SV同時(shí)顯示按鍵設(shè)定；
b、溫度控制方式為P.I.D+S.S.R可控硅；
c、控制方式：40段程序控溫；
八、保溫及加熱方式
a、耐高溫纖維及空氣隔熱；
b、加熱方式為熱輻射及自然對流；
九、安全保護(hù)系統(tǒng)
a、保險(xiǎn)絲；
b、過電流保護(hù)裝置、過溫保護(hù)裝置；
十、配件清單
a、流量計(jì)：1只；
b、高溫手套：一副；
c、氧化鋁墊磚：1 塊；
十、電源：三相380V